삼성전자는 31일, 2017년 시설투자 계획을 발표했다.

올해 전체 시설투자는 약 46.2조원으로 지난해 25.5조원 대비 대폭 증가할것으로 예상된다. 사업별로는 반도체 29.5조원, 디스플레이 14.1조원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10.4조원이며 반도체에 7.2조원, 디스플레이에 2.7조원이 투자됐다.3분기 누계로는 32.9조원이 집행됐다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인증설 투자가 진행중이다.

4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로  신규부지 조성과클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.

이정복 기자  jungbok113@naver.com

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